Technicien en Élaboration de Matériaux en Couches Minces H/F

CNRS

Le/la technicien(ne) supérieur(e) en élaboration de matériaux en couches minces (H/F) est chargé(e) d'assurer le bon fonctionnement des équipements de croissance sous vide du laboratoire, comprenant des systèmes de pulvérisation cathodique et d'épitaxie par jets moléculaires.
Il/elle réalise les opérations de maintenance, de réparation et d'amélioration des équipements, et contribue activement aux développements instrumentaux. Le poste implique le travail sur des dispositifs sous ultra-vide, avec possibilité d'acquisition ou de perfectionnement de ces compétences au sein du laboratoire.
Le/la technicien(ne) assiste les équipes de recherche dans le développement des équipements et dans l'élaboration des matériaux en couches minces, en mobilisant des compétences pluridisciplinaires en vide, mécanique, électronique, informatique et chimie.
Activités
- Conduire et faire évoluer tout ou partie des procédés d'élaboration de matériau(x)
- Effectuer les étalonnages sur les dispositifs expérimentaux (bancs optiques, électriques...)
- Assurer un suivi régulier par des maintenances préventives et contrôler le bon fonctionnement des bâtis de croissance sous vide et des instruments de caractérisation
- Effectuer les interventions de premier niveau en cas de pannes: diagnostic et réparation.
- Faire l'interface avec les équipementiers pour les achats (rédaction de cahiers des charges), réparations et maintenances.
- Adapter des parties d'appareillage en fonction des besoins (achat ou conception de pièces...), gérer les stocks de consommables, prendre en charge les demandes de travaux d'aménagement des salles expérimentales des équipements de dépôt (électricité, fluides...)
Compétences
Savoirs :
- Solides connaissances en sciences et techniques de l'ingénieur (méthodes d'analyse de systèmes physiques, de mise en oeuvre de solutions, de vérification des performances)

Savoir-faire :
- Techniques du vide et notions de l'ultra vide
- Mettre en oeuvre les techniques d'élaboration de couches minces (épitaxie par jets moléculaires, pulvérisation cathodique...)
- Utiliser les techniques de contrôle du domaine des couches minces
- Maîtrise des langues (écrit et oral) : Français et Anglais (niveau B1 minimum).
- Les compétences supplémentaires dans l'un ou plusieurs des domaines suivants seraient appréciées :
Pilotage de la conception : rédiger des spécifications techniques et contractuelles, suivi de la réalisation chez les sous-traitants, gérer des modifications, accepter des livrables, lever des réserves
Automatisation et Interfaçage informatique pour gérer un environnement de mesures, contrôle de bancs de mesures et tests (liaisons série, IEEE et langages de programmation).
Maitrise de la conception et du dimensionnement
Connaissances en dessin industriel et conception assistée par ordinateur (CAO) pour la réalisation de plans à l'aide de logiciels spécifiques

Savoir-être :
- Esprit d'équipe, sens du relationnel
- Réactivité, rigueur, autonomie et capacité d'adaptation sont essentiels pour réussir sur ce poste.
Contexte de travail

SPINTEC est une unité mixte CEA / CNRS / Université Grenoble Alpes et comporte actuellement une centaine de personnes environ, dont 51 permanents. Le laboratoire est organisé en équipes thématiques organisées en 3 groupes scientifiques (concepts, dispositifs et théorie) et un groupe support technique dans lequel sera accueilli-e l'assistant-e ingénieur-e. Il/elle sera intégré-e à l'équipe « Matériaux », sous la responsabilité du chef d'équipe.

Ses missions seront dédiées au bon fonctionnement de l'ensemble des équipements de croissance sous vide du laboratoire (notamment un équipement de pulvérisation cathodique pour la croissance de matériaux métalliques et oxydes, notamment sous forme de jonctions tunnel magnétiques et un cluster d'épitaxie par jets moléculaires pour la croissance de matériaux 2D) et d'assister les équipes dans le développement de ces équipements et dans l'élaboration des matériaux.

L'équipement de pulvérisation cathodique est un équipement conçu et développé en interne ; il est composé d'une chambre de 8 cibles avec possibilité de chauffage in-situ et de co-pulvérisation de plusieurs matériaux simultanément, d'un robot de transfert et d'un sas de chargement de 25 plaques de Si. Les empilements réalisés sont utilisés pour des mémoires magnétiques, des oscillateurs RF ou des capteurs magnétiques. Plusieurs équipes scientifiques du laboratoire contribuent au développement d'empilements en collaboration avec 3 ingénieurs de l'équipe matériaux.
Le cluster d'épitaxie pour la croissance des matériaux 2D contient différentes chambres MBE, PVD, XPS, reliées par un tunnel sous ultravide (UHV). Parmi les équipements, nous disposons de canons à électrons, de cellules d'effusion, de diffraction électronique (RHEED) in situ, d'analyseurs de gaz, d'un spectromètre de photoémission X (XPS) et de magnétrons (DC et RF) pour la pulvérisation cathodique. Le cluster dispose d'une équipe de chercheurs et d'ingénieurs expérimentés en UHV et en croissance épitaxiale.
SPINTEC est une unité mixte CEA / CNRS / Université Grenoble Alpes et comporte actuellement une centaine de personnes environ, dont 51 permanents. Le laboratoire est organisé en équipes thématiques organisées en 3 groupes scientifiques (concepts, dispositifs et théorie) et un groupe support technique dans lequel sera accueilli-e l'assistant-e ingénieur-e. Il/elle sera intégré-e à l'équipe « Matériaux », sous la responsabilité du chef d'équipe.

Ses missions seront dédiées au bon fonctionnement de l'ensemble des équipements de croissance sous vide du laboratoire (notamment un équipement de pulvérisation cathodique pour la croissance de matériaux métalliques et oxydes, notamment sous forme de jonctions tunnel magnétiques et un cluster d'épitaxie par jets moléculaires pour la croissance de matériaux 2D) et d'assister les équipes dans le développement de ces équipements et dans l'élaboration des matériaux.

L'équipement de pulvérisation cathodique est un équipement conçu et développé en interne ; il est composé d'une chambre de 8 cibles avec possibilité de chauffage in-situ et de co-pulvérisation de plusieurs matériaux simultanément, d'un robot de transfert et d'un sas de chargement de 25 plaques de Si. Les empilements réalisés sont utilisés pour des mémoires magnétiques, des oscillateurs RF ou des capteurs magnétiques. Plusieurs équipes scientifiques du laboratoire contribuent au développement d'empilements en collaboration avec 3 ingénieurs de l'équipe matériaux.
Le cluster d'épitaxie pour la croissance des matériaux 2D contient différentes chambres MBE, PVD, XPS, reliées par un tunnel sous ultravide (UHV). Parmi les équipements, nous disposons de canons à électrons, de cellules d'effusion, de diffraction électronique (RHEED) in situ, d'analyseurs de gaz, d'un spectromètre de photoémission X (XPS) et de magnétrons (DC et RF) pour la pulvérisation cathodique. Le cluster dispose d'une équipe de chercheurs et d'ingénieurs expérimentés en UHV et en croissance épitaxiale.