Assistant Ingénieur en Élaboration de Matériaux en Couches Minces H/F CNRS

Détail du poste

L' assistant ingénieur (H/F) en élaboration de matériaux en couches minces devra développer et caractériser des procédés de lithographies optiques et de gravures sèches et humides pour l'ensemble des études du laboratoire, assurer la gestion technique d'un parc d'équipements de lithographie optique et de lithographie par faisceau focalisé et d'un parc de sorbonnes de chimie.
Activités
- Développer de nouveaux procédés de photolithographie, de gravures sèches et humides et de préparation de surface.
- Définir, mettre en oeuvre et caractériser de nouveaux protocoles d'insolation optique, en ajustant conjointement les paramètres propres aux matériaux utilisés.
- Définir, mettre en oeuvre et caractériser de nouveaux protocoles, de gravures sèches ou humides en fonction des matériaux à graver.
- Définir, mettre en oeuvre et caractériser de nouveaux protocoles de préparations et traitements de surface par plasma ou voie humide.
- Caractériser l'ensemble des développements via la microscopie optique et électronique, la profilométrie et l'ellipsométrie, etc.
- Rédiger des notices et des fiches de suivi de procédés technologiques.
- Participer à la gestion d'un parc de 7 aligneurs UV et un système d'écriture direct laser UV (suivre les relations avec les équipementiers, assurer une maintenance de premier niveau, établir un suivi qualité via un contrôle régulier des paramètres standards d'insolation et de corrections des dérives).
- Gérer un parc de 20 sorbonnes de chimie-gravure humide (assurer une maintenance de premier niveau, établir un suivi qualité, en mesurant la résistivité de l'eau désionisée (EDI), la contamination particulaire sous flux laminaire, les vitesses de soufflage et d'extraction en rédigeant des rapports d'analyse et de contrôle).
- Organiser l'accès et l'utilisation des équipements dont elle/il est responsable, notamment à travers les outils informatiques et les bases de données de réservation.
- Former à l'utilisation des dispositifs et aux techniques associées.
- Faire appliquer les règles d'hygiène et de sécurité relatives à l'environnement de travail.
- Établir une veille technologique sur les évolutions du domaine.
Participer aux projets de recherche, en interaction avec les chercheurs ou les collaborateurs extérieurs au laboratoire.

Compétences
Connaissances générales en physique et en chimie.
- Connaissances générales des techniques de mise en forme de matériaux.
- Notions de base sur la chimie des polymères et polymères photosensibles.
- Notions de base sur la chimie humide, le nettoyage et la préparation de surfaces.
- Notions de base sur la gravure sèche par plasma.
- Notions de base sur les techniques de caractérisation : méthodes de contrôle dimensionnel des échantillons, techniques de caractérisation (microscopie optique, électronique, profilométrie).
- Notions générales sur la sécurité à mettre en oeuvre.
- Expérience du travail en salle blanche, des procédés lithographiques ou de gravure sèche ou humide appréciée.
- Anglais : Compréhension écrite et orale (niveau A2 demandé).

- Qualités relationnelles et organisationnelles, capacité à travailler en équipe.
- Capacité à anticiper, apprécier les situations et prendre des initiatives.
- Savoir gérer les priorités.
- Capacité à rédiger des notes techniques.
- Capacité à adapter son langage aux divers interlocuteurs.

Contexte de travail




Le C2N, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies, situé à Palaiseau, est une unité mixte de recherche de l'Université Paris Saclay et du CNRS constituée d'environ 410 personnes.
Les thématiques de recherche du C2N sont la photonique, la nanoélectronique, les microsystèmes et nanobiofluidique et les matériaux.

L' assistant ingénieur (H/F) sera affecté-e sur la Plateforme d'innovation en micro et nanotechnologies (PIMENT) du C2N, constituée d'une équipe technique actuelle de 25 Ingénieur(e)s et Technicien(ne)s.
La plateforme PIMENT a pour mission principale le développement, l'exploitation et l'assistance aux besoins de réalisation en micro nano- fabrication des objets d'études de l'unité et plus largement de la communauté scientifique et industrielle, via notamment le réseau national des Grandes Centrales de Technologie RENATECH.
Elle est organisée en 10 ressources technologiques, regroupant les techniques de lithographies optiques de nano-lithographie et de lithographie alternative, les dépôts métalliques et dépôts diélectriques et traitements thermiques, la gravure sèche et la gravure chimique et l'électrochimie, la caractérisation par microscopie électronique et microanalyse, la caractérisation physico-chimique et le back-end (découpe, montage, câblage...).

L' assistant ingénieur (H/F) viendra renforcer les ressources lithographie optique, gravure sèche, gravure humide, chimie et électrochimie.
Elle/il évoluera sous la responsabilité fonctionnelle des coordinateurs des ressources de rattachement et sous la responsabilité hiérarchique de la direction technique de la plateforme.
Des formations internes seront possibles pour l'adaptation au poste.

Le poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST), et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du MESR.
Contraintes et risques

Conditions liées au travail en salle blanche à environnement contrôlé avec port de combinaison et protections individuelles, au fonctionnement et à la maintenance d'appareillages dans le respect des règles de sécurité. Manipulation de produits dangereux et toxiques.
Infrastructure de recherche ouverte à la communauté scientifique et partenaires industriels. Grand nombre d'utilisateurs nécessitant suivis et formations.